應用介紹

【行業(yè)】PV

【設備】PECVD

【用途】在太陽能電池表面沉積薄膜，提高電池的效率和性能

應用場景

單臺設備分為5個爐管，每個爐管分為6個溫區(qū)，通過串級控制實現(xiàn)對腔體內部的控溫。

解決課題

1、關乎鍍膜效率的核心數據：升溫和回溫速度較慢，從0度升到目標500度需要40分鐘以上；加入氣體以及硅片回溫到目標溫度需要15分鐘。

2、溫控精度影響鍍膜的均勻度以及電池效率，目前設備只能達到±5℃。

價值提案

核心產品：溫度控制單元 NX-TC

■自帶外部干擾抑制功能，能夠針對可預測的外部干擾預先抑制溫度變化。實現(xiàn)升溫時間（40min→35min）與回溫時間（15min→13min）的縮短。

■啟動時自動調整PID，有效削減繁瑣調整的工時。溫控穩(wěn)定（ ±5℃ → ±3℃）

相關產品

NX系列 溫度控制單元 NX-TC

https://www.fa.omron.com.cn/products/family/3699/

若您對本產品感興趣，歡迎掃碼留下您的聯(lián)系方式，歐姆龍工程師將盡快與您聯(lián)絡！